(1)平壓燙?。哼m用于間歇進(jìn)紙的小型標(biāo)簽印刷機(jī)。生產(chǎn)效率低，但印刷制版滾筒片成本低，應(yīng)用廣泛。

依托二維碼信息容量大、保密性高、編碼范圍廣、譯碼可靠性高、糾錯(cuò)能力強(qiáng)、成本便宜等特性可以開展。
依托二維碼信息容量大、保密性高、編碼范圍廣、譯碼可靠性高、糾錯(cuò)能力強(qiáng)、成本便宜等特性可以開展豐富多彩的應(yīng)用，按照主讀和被讀的分類如下

（2）防偽全息紙
以紙為基材的全息產(chǎn)品，分轉(zhuǎn)移型和非轉(zhuǎn)移型兩種。鐳射防偽技術(shù)與紙張結(jié)合制成了防偽紙張。**種是轉(zhuǎn)移法：利用全息防偽技術(shù)和專用設(shè)備，將模壓全息圖像轉(zhuǎn)移法（熱燙印、復(fù)合剝離、UV光固化等）局部或全部轉(zhuǎn)移在紙上。第二種是直鍍法：在紙上涂上高分子涂層并直鍍鋁，再模壓全息圖像。

（2）輪轉(zhuǎn)燙印：適用于連續(xù)進(jìn)紙的大型標(biāo)簽印刷機(jī)，生產(chǎn)效率高，但印版制作成本高，應(yīng)用不普遍，是可選配件。

根據(jù)貼標(biāo)機(jī)的結(jié)構(gòu)，可分為一次燙印和二次燙印兩種：

A. 先燙印，再印刷。由于不帶UV打印設(shè)備的設(shè)備要求燙印的圖文與打印的圖文分開，不能套印，也不能燙印在非干墨上。標(biāo)簽的設(shè)計(jì)有限，用于簡(jiǎn)單圖文的燙印。

二維碼標(biāo)簽

B. 先打印后燙印?？捎糜赨V干墨燙印，燙印圖文可任意設(shè)計(jì)，適用于高檔標(biāo)簽表面燙印。

4. 上釉

防偽標(biāo)簽技術(shù)：
4.潛影：把相關(guān)的文字和圖案印刷在版紋里面，給人的感覺好像是文字和圖案潛伏在印刷品當(dāng)中一樣
5.浮雕：利用了浮雕的處理，運(yùn)用線條做底紋，此類防偽標(biāo)簽技術(shù)應(yīng)用廣泛。
6.縮微：把文字縮小到肉眼不能變化的大小，這種防偽技術(shù)設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單，效果也非常好。
7.防掃描：使用現(xiàn)代超高精準(zhǔn)度的掃描儀和照相制版都不能再呈現(xiàn)的線條。這樣做可以起到防止印刷品被復(fù)制。
8.圖像處理：運(yùn)用不同的線條，結(jié)合印刷品的背景圖案，然后根據(jù)設(shè)定不同的數(shù)據(jù)程序產(chǎn)生各種不同的防偽效果。

目前幾乎所有的不干膠標(biāo)簽印刷材料都采用UV上光技術(shù)，分為亮光和亞光兩種。

(1)現(xiàn)場(chǎng)拋光。采用在線上光裝置進(jìn)行整體上光，利用柔版印刷裝置原理，通過網(wǎng)紋輥控制上光層厚度。

防偽鐳射標(biāo)簽

(2) 局部玻璃。使用印刷工位或使用上光裝置上的局部印版對(duì)標(biāo)簽圖像和文字進(jìn)行局部拋光，以增加局部光澤和對(duì)比度。

上光的作用是保護(hù)墨層，增加光澤，防水防潮。目前，高檔標(biāo)簽一般采用上光技術(shù)代替覆膜技術(shù)。

5.覆膜

同上光工藝，覆膜也分為亮膜和壓光膜。貼合的目的與上光相同，但貼合可以增加標(biāo)簽的強(qiáng)度和厚度，提高耐磨性。 BOPP薄膜是一種常用的薄膜覆蓋材料。

二維碼防偽標(biāo)簽

(1) 帶底紙薄膜。背紙膜的結(jié)構(gòu)與普通邯鄲市不干膠材料相同。用背紙覆蓋薄膜是一種*統(tǒng)的方法。優(yōu)點(diǎn)是薄膜的拉伸變形小，所以標(biāo)簽的平整度好。覆膜無噪音，速度快